GSE tech Factory が開発したエレクトロニクス産業用超高純度モジュール式窒素発生装置は、従来の窒素製造装置の単一濾過構造から脱却しました。これは、工場の通常の圧縮空気をガス源として使用し、「最初に窒素を生成し、次に高度な精製と精製」という二重レベルのプロセスロジックを採用しています。コア分離ユニットを通じて基本的な窒素生成が完了し、独自のマルチレベル複合精製アーキテクチャにより、電子部品のプロセス欠陥を引き起こす可能性が高い微量酸素、残留水分、および超微粒子が特異的に除去されます。これにより、精密加工時の酸化、ピンホール、コーティング欠陥、溶接不良などの製造上の問題がガス供給源で確実に排除されます。
機械全体は電子クリーンルームの基準に基づいて設計されており、完全密閉の無塵構造設計となっています。機械本体にはゴミがたまるデッドコーナーがなく、掃除やメンテナンスが簡単です。半導体無塵工場や精密電子製造工場のクリーン管理仕様に適合し、高精度の生産環境に二次汚染を引き起こしません。
純度勾配の正確な制御もサポートします。チップパッケージング、ウェーハ処理、光電気めっき、精密部品溶接などのさまざまなプロセスの差別化されたガス使用基準に従って、超高純度窒素ガスを安定して出力でき、ハイエンドエレクトロニクス製造プロセス全体のプロセス要件を完全に満たします。
この装置は、安定したガス生成純度、制御可能な露点パラメータ、および非常に高いガス源の清浄度を備えた自動閉ループ方式で動作します。これにより、純度の変動、消耗品のコスト、ガス供給の中断など、従来のボトル詰めされた高純度窒素ガスおよび液体窒素の供給における業界の問題点が完全に解決されます。ハイエンド電子機器製造企業に 24 時間中断のない標準化された汚染ゼロの不活性ガス保護を提供し、製品の歩留まりを効果的に向上させ、精密プロセスのスクラップ率と長期的なガス使用コストを削減します。これは、ハイエンドエレクトロニクス、半導体、オプトエレクトロニクス産業における標準化された生産のための中核的なサポート機器です。
1. 研究開発と生産の観点: エレクトロニクス産業におけるガスの純度と清浄度に対する厳しい要件に応え、当社はこの分野向けに専用の精製モジュールを備えた超高純度窒素発生装置を特別に開発しました。
2. ガス源とプロセスの観点から: この装置は主なガス源として圧縮空気を使用し、まず PSA モジュールを通じて窒素を生成し、次に酸素、水、および微量不純物を徹底的に除去するための多段階精製システムに接続します。
3. アプリケーションの展望: この装置はハイエンド電子製造セグメントをターゲットとしており、ウエハー処理、チップボンディング、半導体パッケージング、精密部品溶接、光学電子コーティングなどのプロセスで広く使用されています。
1. 制御可能な純度勾配による多段階の深層精製:エレクトロニクス産業向けの超高純度窒素発生装置は、複合精製プロセスを採用した専用の深層精製モジュールを備えており、微量酸素レベルと露点パラメータを厳密に制御しながら、窒素純度を99.9999%まで安定的に高めることができます。
2. クリーンルーム専用設計: ユニット全体はシームレスなシーリングと簡単に掃除できる表面を備えた無塵構造設計を採用しており、粉塵の蓄積するデッドゾーンを排除し、電子クラスグレードのクリーンルーム管理基準に完全に準拠しています。
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